फ्लैट एल्युमिना पॉलिशिंग पाउडर
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फ्लैट एल्युमिना पॉलिशिंग पाउडर

फ्लैट एल्यूमीनियम ऑक्साइड पॉलिशिंग पाउडर में एल्यूमीनियम ऑक्साइड की शुद्धता 99% से अधिक है। क्रिस्टल का आकार षटकोणीय सपाट और प्लेट जैसा होता है। यह ऊष्मा{{4}प्रतिरोधी, अम्ल- और क्षार{{6}प्रतिरोधी है, और इसमें उच्च कठोरता है। पारंपरिक अपघर्षक गोलाकार कणों के विपरीत, फ्लैट एल्यूमीनियम ऑक्साइड की निचली सतह सपाट होती है। पीसते समय, कण वर्कपीस की सतह पर फिट हो जाते हैं, जिससे कणों के तेज कोनों को वर्कपीस की सतह को खरोंचने से रोकने के लिए एक स्लाइडिंग पीसने वाला प्रभाव पैदा होता है। दूसरी ओर, जब फ्लैट एल्यूमीनियम ऑक्साइड को पीसते हैं, तो पीसने का दबाव कण की सतह पर समान रूप से वितरित होता है, कणों को तोड़ना आसान नहीं होता है, और पहनने के प्रतिरोध में सुधार होता है, जिससे पीसने की दक्षता और सतह खत्म में सुधार होता है।
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उत्पाद का परिचय

Flat Alumina Polishing Powder

 

प्लेटलेट कैलक्लाइंड एल्युमिना पाउडर, जिसे सारणीबद्ध एल्यूमीनियम ऑक्साइड ग्राइंडिंग पाउडर के रूप में भी जाना जाता है। इसका नाम इसकी कण क्रिस्टल संरचना के तराजू/सपाट प्लेटों के आकार के कारण रखा गया है। फ्लेक एल्युमिना का क्रिस्टल रूप - Al2O3 है जिसमें उच्च कठोरता और पीसने का प्रदर्शन होता है। इलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग में, पॉलिशिंग और पॉलिशिंग के लिए उच्च सतह परिशुद्धता की आवश्यकता होती है। सटीक पीस प्रभाव और उपज सुनिश्चित करने के लिए, तेज क्रिस्टल आकार वाली अपघर्षक सामग्री अब आवश्यकताओं को पूरा नहीं कर सकती है। परत/फ्लैट एल्यूमिना के अपघर्षक कणों की सतह सपाट और चिकनी होती है, और कणों के व्यास से मोटाई के अनुपात को संश्लेषण विधि को समायोजित करके समायोजित किया जा सकता है। सेमीकंडक्टर चिप्स या अन्य माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक घटकों को पीसने से खरोंच लगने का खतरा कम होता है, जिससे योग्य चिप्स की उपज में काफी सुधार होता है। प्लेटलेट कैलक्लाइंड एल्यूमिना का उत्पादन क्रिस्टल के पार्श्व विकास को बढ़ावा देने और एक सारणीबद्ध संरचना के साथ नियमित हेक्सागोनल पाउडर बनाने के लिए उच्च तापमान कैलक्लाइंड विधि को अपनाता है। प्लेटलेट आकार के निलंबन उपचारित एल्यूमीनियम ऑक्साइड पीसने वाले पाउडर को एक समान कण आकार वितरण मिलता है। यह एक अच्छी पीसने वाली सतह सुनिश्चित करता है।

 

फ्लैट एल्युमिना पॉलिशिंग पाउडर के फायदे

 

सेमीकंडक्टर सामग्री जैसे सेमीकंडक्टर सिलिकॉन वेफर्स के लिए, फ्लैट एल्यूमिना का उपयोग पीसने के समय को कम कर सकता है, पीसने की दक्षता में काफी सुधार कर सकता है, पीसने वाली मशीन के नुकसान को कम कर सकता है, श्रम और पीसने की लागत बचा सकता है, और पीसने की पास दर में सुधार कर सकता है। गुणवत्ता प्रसिद्ध विदेशी ब्रांडों के करीब है।
सीआरटी ग्लास शेल पीसने की दक्षता में 3-5 गुना सुधार हुआ है;
योग्य उत्पाद दर में 10-15% की वृद्धि हुई है, और सेमीकंडक्टर सिलिकॉन वेफर्स की योग्य उत्पाद दर 99% से अधिक तक पहुंच गई है;
साधारण एल्यूमिना पॉलिशिंग पाउडर की तुलना में पीसने की खपत 40-40% कम हो जाती है;

Flat Alumina Polishing Powder

 

फ्लैट एल्युमिना पॉलिशिंग पाउडर अनुप्रयोग

1) इलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग: सेमीकंडक्टर सिंगल क्रिस्टल सिलिकॉन वेफर्स, पीजोइलेक्ट्रिक क्वार्ट्ज क्रिस्टल और मिश्रित सेमीकंडक्टर्स (गैलियम आर्सेनाइड, इंडियम फॉस्फाइड) की पीस और पॉलिशिंग।
2) ग्लास उद्योग: क्रिस्टल, क्वार्ट्ज ग्लास, कैथोड रे ट्यूब ग्लास शेल स्क्रीन, ऑप्टिकल ग्लास, लिक्विड क्रिस्टल डिस्प्ले (एलसीडी) ग्लास सब्सट्रेट, और पीजोइलेक्ट्रिक क्वार्ट्ज क्रिस्टल की पीसने और प्रसंस्करण।
3) कोटिंग उद्योग: विशेष कोटिंग और प्लाज्मा छिड़काव के लिए भराव।
4) धातु और सिरेमिक प्रसंस्करण उद्योग: सटीक सिरेमिक सामग्री, सिन्जेड सिरेमिक कच्चे माल, उच्च तापमान प्रतिरोधी कोटिंग्स, आदि।

 

अपघर्षक चमकाने वाला तरल

 

पारंपरिक नैनो एल्यूमिना की तुलना में, सपाट और चिकनी शीट की सतह को पॉलिश की जा रही वस्तु पर खरोंचना आसान नहीं है, और योग्य उत्पाद दर को 10% से 15% तक बढ़ाया जा सकता है। इसलिए, प्लेट के आकार का एल्यूमिना उच्च परिशुद्धता वाले माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक उद्योग, रत्न प्रसंस्करण उद्योग और धातु सिरेमिक उद्योग का नया पसंदीदा बन गया है।

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अकार्बनिक भराव

 

प्लेट एल्यूमिना औद्योगिक उत्पादन में एक अनिवार्य भराव है। इसका उपयोग कार्यात्मक सिरेमिक, प्लास्टिक और रबर उत्पादों में कठोरता और कठोरता को बढ़ाने के लिए किया जाता है, और संकोचन और थर्मल विस्तार गुणांक को समायोजित कर सकता है।

कार्यात्मक कोटिंग

 

एल्यूमीनियम ऑक्साइड जैसी उत्कृष्ट प्लेट में कोई एकत्रीकरण घटना और अच्छा आसंजन नहीं होता है। आकर्षक संभावनाओं के साथ विभिन्न नई कार्यात्मक कोटिंग सामग्री तैयार करने के लिए अन्य कार्यात्मक माइक्रोपाउडर के साथ संयोजन करना आसान है। केशिकाओं के लिए उपयोग की जाने वाली एल्यूमीनियम ऑक्साइड कोटिंग इलेक्ट्रोस्मोटिक प्रवाह प्रदर्शन के उलट और लक्ष्य विश्लेषण की चयनात्मकता और स्थिरता में काफी सुधार कर सकती है; स्टील्थ विमानों के लिए उपयोग की जाने वाली कार्यात्मक कोटिंग रडार द्वारा खोजे जाने से रोकने के लिए रेडियो तरंगों को अवशोषित कर सकती है।

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फ्लैट एल्यूमिना पॉलिशिंग पाउडर की विशेषताएं

 

1. बिंगयांग एब्रेसिव द्वारा उत्पादित प्लेटलेट कैलक्लाइंड एल्यूमिना पाउडर आयातित उत्पादों की तुलना में एल्यूमीनियम ऑक्साइड पाउडर की तरह आयातित शीट के पीस प्रभाव को प्राप्त कर सकता है।

2. क्रिस्टल का आकार किनारों और कोनों के बिना सपाट होता है, और पीसने के दौरान, अपघर्षक कण वर्कपीस के बीच एक सपाट स्लाइडिंग प्रभाव पैदा करते हैं, जिससे खरोंच की संभावना कम हो जाती है।

3. उच्च कठोरता और मजबूत पीसने की शक्ति। परतदार एल्युमिना में कोरंडम - Al2O3 क्रिस्टल चरण के समान गुण होते हैं, जो अधिकांश सामग्रियों को पीसने और पॉलिश करने के लिए उपयुक्त है।

4. कम चुंबकीय सामग्री, उच्च सफाई, और उच्च कण आकार स्थिरता।

5. उच्च गलनांक, उच्च यांत्रिक शक्ति और उच्च पीसने की दक्षता।

6. कण का आकार नियंत्रणीय है और 3 से 50 माइक्रोन तक प्राप्त किया जा सकता है।

7. कणों का सपाट होना फ्लेक एल्यूमिना पाउडर को फैलाने में आसान बनाता है, जिससे यह अपघर्षक बनाने या तरल पदार्थ पीसने के लिए उपयुक्त हो जाता है।

8. इसमें संक्षारण प्रतिरोध, मजबूत रासायनिक स्थिरता और बेहतर एंटीऑक्सीडेंट प्रदर्शन है, और यह पीसने वाले तरल पदार्थ में तरल मीडिया के साथ प्रतिक्रिया नहीं करेगा।

9. फ्लैट एल्यूमिना पॉलिशिंग पावर के कारण बड़ा विशिष्ट सतह क्षेत्र, सतह गतिविधि और आसंजन।

10. प्लेटलेट कैलक्लाइंड एल्यूमिना पाउडर को फैलाना आसान है, और पाउडर को वेफर की सतह पर एकत्र करना आसान नहीं है, जिससे संचय होता है और पॉलिशिंग चिकनाई प्रभावित होती है।

 

इलेक्ट्रॉन माइक्रोस्कोप छवि इस प्रकार है

 

TA03

PTWA03 इलेक्ट्रॉन माइक्रोस्कोप छवि

PWA15

PTWA15 इलेक्ट्रॉन माइक्रोस्कोप छवि

 

फ्लैट एल्यूमिना पॉलिशिंग पाउडर रासायनिक घटक

 

Al2O3 >=99.0%
SiO2 <0.2
Fe2O3 <0.1
Na2O <1

 

फ्लैट एल्युमिना पॉलिशिंग पाउडर भौतिक गुण

 

रासायनिक घटक

-Al2O3

रंग सफ़ेद
विशिष्ट घनत्व 3.9 ग्राम/सेमी3
मोहस कठोरता 9.0

 

फ्लैट एल्युमिना पॉलिशिंग पाउडर उत्पादन विशिष्टताएँ

 

प्रकार D3(μm) D50(μm) D94(μm)
पीटीडब्ल्यूए40 39-44.6 27.7-31.7 18-20
पीटीडब्ल्यूए35 35.4-39.8 23.8-27.2 15-17
पीटीडब्ल्यूए30 28.1-32.3 19.2-22.3 13.4-15.6
पीटीडब्ल्यूए25 24.4-28.2 16.1-18.7 9.6-11.2
पीटीडब्ल्यूए20 20.9-24.1 13.1-15.3 8.2-9.8
पीटीडब्ल्यूए15 14.8-17.2 9.4-11 5.8-6.8
पीटीडब्ल्यूए12 11.8-13.8 7.6-8.8 4.5-5.3
PTWA09 8.9-10.5 5.9-6.9 3.3-3.9
PTWA05 6.6-7.8 4.3-5.1 2.55-3.05
PTWA03 4.8-5.6 2.8-3.4 1.5-2.1

पैकेजिंग: 10 किग्रा/प्लास्टिक बैग, 20 किग्रा/बॉक्स

Semiconductor Wafer Flat Alumina Polishing Powder production line

 

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